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    1. 四氟化碳

      四氟化碳

      產品簡介

       四氟化碳

      用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體,用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,四氟化碳高純氣及四氟化碳高純氣、高純氧的混合氣,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。



      詢盤單

      產品信息


      四氟化碳產品特征:

      分子量: 88.01 g/mol
      CAS No.: 75-73-0

      相對蒸氣密度(空氣= 1): 3.038

      相對密度(= 1): 1.96



      組分

      雜質含量

      等級

      包裝方式

      包裝尺寸

      重量

      CF4 99.9%

       

      3N

      鋼瓶

      40L

       

      CF4 99.999%

       

      5N

      鋼瓶

      40L

       

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